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我校参加第四届“华人光催化材料学术研讨会”

来源: 发布时间:2021-11-25 10:01:28 浏览次数: 【字体:

2021年11月19-21日,由华东理工大学主办,上海理工大学和上海师范大学协办的第四届“华人光催化材料学术研讨会”(CSPM4)在上海顺利召开。来自世界各地的专家、学者、研究生和企业代表200余人参加了线下及线上会议。

受会议主席欧洲科学院院士张金龙教授的邀请,由陈士夫教授带领学校光催化领域近20名师生参加了此次盛会。大会上,陈士夫教授受邀做“光生电荷载流子迁移的内生动力及方向—光催化相对p-n结理论”的大会主题报告。报告高屋建瓴,深入浅出,从光催化基础理论出发,阐释了光催化材料(异质结)光生载流子迁移方向、内生动力以及寿命长短对活性的本质影响等关键科学问题。该研究成果受到与会专家热烈反响,为未来高效、多用途光催材料的设计制备提供了重要的理论依据。

代凯、张金锋和孟苏刚老师分别做了“S型半导体异质结构筑及光催化性能研究”、“2D/2D锑烯/g-C3N4复合材料制备及其光催化CO2还原活性”、“双功能光催化耦合反应的构建与机制研究”的口头报告,为新型光催化材料的研究提供了新思路。另外,孙悦老师以及研究生胡成、刘家放、桂曙分别利用墙报的形式,展示了“仿生非对称纳米通道在能源转换与存储中的应用”、“Tube-like Bi4O5I2/Bi4O5Br2 step-scheme heterostructure with oxygen vacancies synthesized by calcining the solid solution containing organic group”、“Efficient photocatalytic H2 production coupling with selective oxidation of aromatic alcohol under carbon neutrality”和“photothermal synergy of 1D Cd0.9Zn0.1S and 2D Mn3O4 for achieving forcefully active and highly selective aromatic alcohol oxidation”的最新研究成果。其中,刘家放同学的“Efficient photocatalytic H2 production coupling with selective oxidation of aromatic alcohol under carbon neutrality”获得了大会优秀墙报奖。

会议期间,我校参会师生聆听了专家学者们的精彩报告,并与专家们进行了深入交流。通过此次会议,展示了我校在光催化领域的最新研究进展,在增进跨学科学术交流,加速人才培养和队伍建设,助力实现“双碳”目标等方面都具有重要的意义。

    (文图:孟苏刚       /      审核:杨振兴、曹静)

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